Thermal and plasma enhanced atomic layer deposition of SiO2 using commercial silicon precursors

Matti Putkonen, M. Bosund, Oili M. E. Ylivaara, Riikka Puurunen, L. Kilpi, H. Ronkainen, S. Sintonen, S. Ali, H. Lipsanen, Xuwen Liu, Eero Haimi, Simo-Pekka Hannula, Timo Sajavaara, I. Buchanan, E. Karwacki, Mika Vähä-Nissi

Research output: Contribution to journal › Article › Scientific › peer-review

65 Citations (Scopus)

Search results